석영 튜브가 있는 실험실 진공 PECVD 용광로 

장비 소개: 필름을 구성하는 원자가 포함된 기체를 무선 주파수 등을 이용해 이온화하여 국소적으로 플라즈마를 형성하는 장비입니다. 이 플라즈마는 화학적 활성이 있어 쉽게 반응하여 기판 위에 원하는 필름을 증착합니다. 낮은 온도에서 화학 반응을 진행하기 위해 플라즈마의 활성을 이용하여 반응을 촉진하는데, 이를 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)이라고 합니다.

제품 설명: 이 장비는 고정 단일 온도 영역 PECVD 시스템으로, D60x1000L mm 2 온도 영역 튜브 퍼니스, 500W 플라즈마 RF 전원, 3 채널 질량 흐름 공기 공급 시스템 및 진공 장치가 포함되어 있습니다.

시스템의 주요 구성 요소 및 기능

장비는 주로 관형 가열로 본체, 진공 시스템, 양성자 흐름 가스 공급 시스템, 무선 주파수 플라즈마 소스, 석영 반응 챔버 등으로 구성됩니다.

주요 기능:

1. 석영 진공 챔버의 가스는 무선 주파수 전원에 의해 이온 상태로 변경됩니다.

2. 화학 기상 증착을 수행하는 데 필요한 PECVD의 온도는 일반 CVD보다 낮습니다.

3. 증착된 필름의 응력은 RF 전원의 주파수에 의해 제어할 수 있습니다.

4. PECVD는 일반 CVD보다 화학 기상 증착 속도, 균일성, 일관성 및 안정성이 높습니다.

5. 널리 사용됨 : 장비는 시트 또는 유사한 모양의 샘플 표면에 SiOx, SiNx, 비정질 실리콘, 미세 결정 실리콘, 나노 실리콘, SiC, 다이아몬드 형 및 기타 필름을 증착 할 수 있으며 p 형, n 형 도핑 기타 필름을 증착 할 수 있습니다. 증착된 필름은 균일성, 소형화, 접착력 및 절연성이 우수합니다. 절삭 공구, 고정밀 금형, 하드 코팅, 고급 장식 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다.

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